兑水 发表于 2009-11-23 16:07:17

ASTM E 1438-1991 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形...

E1438-91(2001) Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS
页: [1]
查看完整版本: ASTM E 1438-1991 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形...