SJ/T 10627-1995通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性*
【 标准编号 】 SJ/T 10627-1995<BR>【 标准名称 】 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 <BR>【 英文名称 】 Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction<BR>【 发布单位 】 中华人民共和国电子工业部<BR>【 批准单位 】 中华人民共和国电子工业部<BR>【 发布日期 】 1995-4-22<BR>【 实施日期 】 1995-10-1<BR>【 开本页数 】 5P<BR>【 引用标准 】 GB/T 1557; GB/T 14143<BR>【 起草单位 】 电子工业部第46研究所<BR>【 起 草 人 】 何秀坤; 汝琼娜; 李光平; 段曙光<BR>
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