GB/T 19444-2004硅片氧沉淀特性的测定—间隙氧含量减少法
【 标准编号 】 GB/T 19444-2004<BR>【 标准名称 】 硅片氧沉淀特性的测定—间隙氧含量减少法 <BR>【 英文名称 】 Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction<BR>【 发布单位 】 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局; 中国国家标准化管理委员会<BR>【 发布日期 】 2004-2-5<BR>【 实施日期 】 2004-7-1<BR>【 开本页数 】 5P<BR>【 引用标准 】 GB/T 1557; GB/T 14143; GB/T 14144<BR>【 采用关系 】 IDT ASTMF1239:1994<BR>【 起草单位 】 洛阳单晶硅有限责任公司; 中国有色金属工业标准计量质量研究所<BR>【 起 草 人 】 蒋建国; 屠妹英; 贺东江; 章云杰<BR><BR>
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