GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
【 标准编号 】 GB/T 16879-1997<BR>【 标准名称 】 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 <BR>【 英文名称 】 Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment<BR>【 发布单位 】 国家技术监督局<BR>【 批准单位 】 国家技术监督局<BR>【 发布日期 】 1997-6-20<BR>【 实施日期 】 1998-3-1<BR>【 开本页数 】 8P<BR>【 引用标准 】 SJ/T 10152-91; SJ/T 10584-94<BR>【 采用关系 】 IDT SEMI P21-92<BR>【 起草单位 】 中国科学院微电子中心<BR>【 起 草 人 】 陈宝钦; 陈森锦; 廖温初<BR>
页:
[1]